南大光电完成国家科技重大专项，芯片光刻胶已验收 - 安防知识网

南大光电官方发布公告：“关于公司承担的国家科技重大专项（02专项）”已通过专家组验收。其中包括极大规模集成电路制造装备及成熟工艺、先进7纳米光刻胶产品开发与光刻胶供给链产业化。

据了解，南大光电承接的“国家科技重大专项（02专项）”，其项目目标是：开发高端集成电路用高端制程光刻胶，建设一条具备大规模生产能力、拥有自主知识产权体系的生产链。成立一个能够与国际先进芯片原料接轨的技术与管理人才团队。负责验收南大光电ArF光刻胶的专家组表示：南大光电在ArF干式、浸没式系列光刻胶产品上，实现了从原材料制备到应用的自给化，有关光刻胶生产的配胶、分析检测等技术环节，南大光电也全部掌握。

　　南大光电内部形成了由51人组成的ArF光刻胶研发及生产管理团队。在光刻胶成品的质量把控及良品率调控上，南大光电成功建成ArF光刻胶质量控制平台。目前南大光电已具备年产25吨光刻胶成品的能力，其中包括5吨干式ArF光刻胶、20吨浸没式ArF光刻胶。截至2021年，南大光电申请专利总计91项、国内发明专利有81项、国际发明专利4项、实用新型专利6项（已授权）、制定团体标准3项、研制新产品2项。

ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的关键材料，目前我国在ArF、KrF光刻胶领域中的市场占比较少，全球大多数的光刻胶市场都被美国、日本垄断。作为一家国产企业，南大光电在美日半导体高频打压我国半导体行业的背景下完成突破，为其产品增添了一份特殊的含义。